技术编号：2714510
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供,达到优化光源图形，提高光刻系统成像性能，并尽可能降低光源复杂度的目的。本方法采用序贯最小二乘估计方法，在每次迭代中采用关键区域中的一个观测点数据，对当前光源图形进行更新。在遍历所有观测点后，采用逆向阶递归最小二乘估计方法，对光源图形进行循环规则化。采用本方法，如果在光源优化结束后获得了新增的观测点数据，可以直接对当前光源优化结果进行修正，而无需对光源进行重新优化。同时，本发明可以实现照明交叉系数矩阵计算和光源优化的并行处理，并可以在降低光源复杂...
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