技术编号：2714812
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种，该重复利用方法包括如下步骤步骤10、提供一已使用过的蚀刻速率测试控片；步骤20、将光阻层(4)全部去除；步骤30、在非金属膜(3)上涂布另一光阻层(4’)，将曝光位置偏离所述已被蚀刻过的测试过孔(31)对该另一光阻层(4’)进行曝光；步骤40、测量未被所述另一光阻层(4’)覆盖的非金属膜(3)的厚度H1；步骤50、对未被另一光阻层(4’)覆盖的非金属膜(3)进行一定时间T的蚀刻，形成另一测试过孔(32)；步骤60、蚀刻完成后，测量位于另一测...
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