技术编号：2714835
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种光刻机光源优化方法，以像素化的光源为粒子，将理想图形与当前光源照明模式下掩模对应的光刻胶像每一点差异的平方和作为目标函数，利用含有线性递减权重和压缩因子的粒子群优化算法，通过更新粒子的速度与位置信息迭代优化光源图形。本发明有效提高了光刻成像质量，具有原理简单、易于实现、收敛速度快的优点。专利说明 [0001] 本发明涉及光刻机，尤其涉及一种用于光刻机的光源优化方法。 背景技术 [0002] 光刻技术是极大规模集成电路制造中最为关键的技术之一，...
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