技术编号：2717460
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种用于热压印的连续浮雕阳模属于微光学元件加工技术，在不引入附加工艺步骤的前提下，解决了压模使用寿命和压印填充效果不可兼顾的技术问题；包括阳模的连续浮雕结构和止挡栅结构；多个止挡栅结构圆周均布在阳模的连续浮雕结构的周边外围，且每个止挡栅结构下端面均低于连续浮雕结构下端面；在阳模的连续浮雕结构的周边外围设有止挡栅结构，止挡栅结构下端面低于连续浮雕结构下端面，用于承载作用于压模的总压力，并以栅形设计减小结构下方抗蚀剂所需横向流动的距离，克服了连续浮雕阳模的尖锐...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。