技术编号：2717720
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种，通过在第二硬掩模层形成多个浅槽，并在第二硬掩模层和第一硬掩模层形成多个深槽，由此形成浅槽和深槽间隔而设的深度不同的对准标记，以增强对准标记的信号强度，易于被采集到。本发明较佳地通过调整两个硬掩模层的厚度，控制浅槽和深槽的深度，以使得浅槽和深槽在深度-信号强度正弦波一个周期波峰的两侧，并使其信号强度相同，以进一步增强信号强度，更易于被采集到。本发明尤其适用于硬掩模厚度较小、对准标记深度有限的双重图形工艺情况。专利说明 [0001]本发...
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