技术编号：2724192
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型关于一种洁净装置，尤指一种光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置。背景技术光刻制程是半导体制程图案化的重要制程技术，当导体或半导体材料层沉积于基板之后，会将光致抗蚀剂涂布于上述材料层上，利用光源通过具有图案设计的屏蔽而照射光致抗蚀剂特定区域，进而使用显影液溶解部分光致抗蚀剂，以形成阻挡蚀刻或阻挡离子布值的图案化掩膜层(mask)。光刻制程的曝光显影技术，是利用光的能量使受光源照射的光致抗蚀剂性质改变，举正型光致抗蚀剂(positive photores...
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