技术编号：2725073
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及应用于光刻工艺中的光刻胶涂敷装置，具体为一种轨道式匀胶显影设备用胶泵。背景技术光刻工艺的应用非常广泛，例如凡半导体元件、光电元件等，都需要用到光刻工艺以将所需的电子零件和线路，一层一层的转移到衬底(晶片或玻璃基板)上。一般而言，光刻的基本工艺是由光刻胶涂敷、曝光及显影等三大步骤构成的。由于光刻胶内含有溶剂，使得光刻胶本身能以液态的形式存在，因此在光刻胶涂敷工序中大多利用高速旋转的方式，借助离心力将光刻胶均匀的涂敷于衬底上，以期于衬底表面形成一...
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