技术编号：2725585
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。正性干膜光致抗蚀剂(photoresist)包含至少两种溶剂并且具有优异的 物理性质，比如高的胶片速度(或光敏速度)、显影对比度、灵敏度、分辨 率和/或对衬底的粘附。背景技术光致抗蚀剂和光致抗蚀剂膜被用于制备高度集成的半导体比如集成电 路(IC);印刷电路版(PCB)和电子显示器件如阴极射线管(CRT)、彩色液晶 显示器(LCD)和有机电致发光显示器(EL或ELD)。这些器件的制备方法采 用光刻法和光制备技术。光致抗蚀剂膜需要足以形成具有非常细的线和不 大...
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