技术编号：2725974
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种微光刻投影曝光设备，诸如用于制造大规模集成电路 和其他微结构元件的设备的光学系统。本发明尤其涉及这种系统的投影物 镜，其包括与液体相邻的向上凹面弯曲的光学表面。背景技术来制造，所述基底例如可以是珪晶片。为了构成结构层，首先用对特定波长范围的光，例如深紫外(DUV)谱线范围的光，敏感的光致抗蚀剂覆盖 它们 然后使以这种方式涂覆了的晶片在投影膝光设备中进行曝光，在啄 光期间，借助于投影物镜，包括在掩模中的衍射结构图形被成像到光致抗 蚀剂上。由于成...
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