技术编号：2726629
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种辐射敏感树脂组合物，该组合物适合作为用于利用 各种类型的辐射进行微加工的抗蚀剂，所述辐射例如远紫外线(例如KrF、 ArF或F2准分子激光)、X射线(例如同步辐射)和带电粒子束(例 如电子束)。背景技术在以制造集成电路器件为代表的微加工领域中，用于精细图案光刻 的设计规则快速发展，以实现高度集成化和成本降低。随着该发展，强 烈需要开发稳定地进行精细加工的光刻方法。为了响应这种动向，已经提出了作为抗蚀剂的感度由于酸的催化作 用而得到改善的多种包...
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