技术编号：2726776
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种使用化学增强的光刻胶，来形成具有更少显影缺陷和好的轮廓的抗蚀图形的方法，并涉及一种被用在该方法中的用于减少显影缺陷的组合物。更特别的是，本发明涉及一种用于形成抗蚀图形的方法，其能通过图像曝光在其表面上形成有化学增强的光刻胶层的大直径基质，形成具有良好轮廓的抗蚀图形，化学增强的光刻胶层用来防止在整个大直径基质上显影缺陷的产生，本发明还涉及一种在该方法中使用的减少显影缺陷的组合物。现有技术在制造半导体元件中，使用了平板印刷技术，其中光刻胶层形成在...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。