技术编号：2727418
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光学，涉及， 具体涉及结合激光干涉法和化学刻蚀法的无机材料光栅的制备方法。技术背景高密度光栅是微光学中的一种重要的光学元件，可广泛应用于光谱学、 计量学、集成光学、信息处理及光通信等领域，对于提高光学元器件的分辨 率，实现集成化具有重要意义。目前，制备高密度光栅的方法很多，传统的方法包括机械刻划和化学刻 蚀等，这些方法一般精度较低且难以制备亚微米高密度光栅。随着新型有机 感光材料的发展，结合激光干涉技术在亚微米级光栅的制备方面获得了很大 进展。但...
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