技术编号：2727699
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。,对准方法和对准系统的制作方法本发明涉及一种对准系统、对准方法和，尤其涉及一种与集成电 路或其它微型器件制造领域内的光刻装置有关的对准系统、对准方法和对准标 记。背景技术现有技术中的光刻装置，主要用于集成电路IC或其它微型器件的制造。通过光刻装置，具有不同掩模图案的多层掩模在精确对准下依次成像在涂覆有光刻胶的晶圆上，例如半导体晶圓或LCD板。光刻装置大体上分为两类， 一类是 步进光刻装置，掩模图案一次曝光成像在晶圓的一个曝光区域，随后晶圆相对 于掩模移动，...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。