技术编号：2728381
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及向由热反应型基材构成的加工对象物照射激光并在该加工对象物的表面形成预定的超细微图案的，更详细地说，涉及使用半导体集成电路的制造和光学部件的超细微加工中用的半导体激光器在加工对象物上制作射束点直径以下的纳米单位大小的超细微图案的。背景技术 迄今，作为制造集成电路的制造等中用的光掩模和中间掩模的激光描绘装置，XY台式激光描绘装置已是众所周知。其中，驱动正交的两个滑动器以使装载在XY台上的被处理物在X方向和Y方向上移动，同时通过光学系统将激光聚集到被处...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。