技术编号：2728484
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种基板处理装置，特别是涉及使例如半导体晶片或LCD基板等被处理体旋转，供应不同种类的处理液而实施处理的基板处理装置。背景技术 通常，在半导体晶片的制造工序中，为了在半导体晶片或LCD基板等被处理用的基板表面上形成抗蚀剂的图案而采用光刻技术。这种光刻技术具有在基板的表面上涂敷抗蚀剂液的抗蚀剂涂敷工序，在形成的抗蚀剂膜上曝光出电路图案的曝光处理工序，以及向曝光处理后的基板上供应显影液的显影处理工序。在上述抗蚀剂涂敷工序中，将抗蚀剂液的溶剂供应(滴下...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。