技术编号：2728492
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于设计精细图案的方法和设备，具体地，涉及一 种用于使用程序设计在衬底上曝光的精细图案的方法和设备。背景技术由于半导体器件近来趋于高集成度的趋势，用于形成半导体器件的 图案逐渐变得更加精细。因为减小了包括精细图案的单独器件的尺寸， 也必须减小节距，即所需图案的宽度和间隔。然而，用于形成图案(例 如线条和间隔图案，下文中称作"线条图案")的光刻法具有分辨率限制，从而限制了精细图案的形成。在半导体器件的生产中，精细图案可以采用多种形式，在这些形式...
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