技术编号：2728505
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种在光刻中增强图案转移的系统和方法。更具体地，本发明涉及一种具有可变掩模性质的硬掩模系统。背景技术本发明涉及光刻和光刻投影设备领域，光刻投影设备包含用于提供辐射投影束的辐射系统、用于支撑图案化装置的支撑结构、用于保持基板的基板台和用于将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统，图案化装置用于根据所希望的图案来图案化投影束。这里采用的术语“图案化装置”应当广义解释为指的是可以用于对应于在基板的目标部分中建立的图案将图案化截面赋予入射辐射束的装...
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