技术编号：2728773
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及激光退火设备，更为确切地说，涉及用在低温多晶硅TFT(薄膜晶体管)等类的结晶退火处理过程中的激光退火设备。背景技术 在低温多晶硅TFT的结晶退火处理过程中，XeCl激光被广泛使用作为加热光源。最近，如由具有Q开关操作方式的NdYAG(钇铝石榴石)激光的第二谐波所表示的具有较高峰值功率的绿色激光可以用作加热光源的这一事实已经引起很大关注，因为这种激光具有以较低的运行成本来获得更大的晶体生长的能力。在使用具有较高峰值功率的绿色激光的退火处理过程中，最...
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