技术编号：2729094
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光学临近修正方法。技术背景在先进光刻工艺中，因曝光图形尺寸的缩小，须对光掩模图形进行预 先的光学临近修正，来弥补由光学系统的有限分辨率造成的光学临近效 应。之前的大尺寸工艺中，直接按照电路设计版图文件决定的电路版图形 制作光掩膜图形。而在尺寸縮小后，通常采用电路设计版图文件作为光学 临近修正软件的输入文件，对由该电路设计版图文件决定的电路版图形 (见图l，其中外轮廓为金属层图形，有填充图案的方块区域为引线孔层 图形)进行光学临近修正，通过光学...
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