技术编号：2729100
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种集成电路的半导体制备工艺中用于快速探测曝光机 最佳焦点的方法。 背景技术在目前半导体工艺中测量曝光机最佳焦点的方法是利用曝焦距的矩阵然后测量不同焦距的线宽，做泊松曲线(Bossimg Curve)决定最佳聚焦 点。该方法周期长，测量数据多，而且需要再工事成本高。 发明内容本发明所要解决的技术问题是提供一种用于探测曝光机最佳焦点的 方法，它可以快速探测最佳焦点，具有周期短、测量数据少、成本小的优 占。八"o为了解决以上技术问题，本发明提供了 一...
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