技术编号：2729967
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光蚀刻用防护薄膜组件，其在制造LSI、超LSI等半导体装置或液晶显示板时，作为光蚀刻用掩模的防尘器使用。背景技术 在LSI、超LSI等半导体或是液晶显示板等产品的制造中，是用光照射半导体晶圆或液晶用原板以制作形成图案，惟若此时所使用的曝光原板(光蚀刻用掩模)有灰尘附着的话，由于该灰尘会吸收光，使光弯曲，故除了会使转印的图案变形、使边缘变粗糙以外，还会使基底污黑，并损坏尺寸、品质、外观等。因此，该等作业通常在无尘室中进行，惟即使在该无尘室内亦难...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。