技术编号：2730023
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及形成高性能的各种薄膜的薄膜形成方法、具有上述薄膜的物品、以上述薄膜作为反射防止膜的光学膜、适于形成上述薄膜的介电体覆盖电极、以及具有该介电体覆盖电极的等离子体放电处理装置。更具体地，涉及在大气压或接近大气压的压力下使反应性气体成为等离子态，通过在该等离子态的反应性气体中曝露衬底，在上述衬底上形成薄膜的薄膜形成方法、具有上述薄膜的物品、光学膜、介电体覆盖电极及等离子体放电处理装置。作为这些高性能的薄膜，有例如，电极膜、介电体保护膜、半导体膜、透明导...
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