技术编号：2730543
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及反射镜阵列，并涉及用于光刻术的反射镜阵列。背景技术 光刻设备是一种将想要的图案施加到衬底上、通常施加到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可用于例如集成电路(IC)的制造。在那种情况下，可利用另外被称为掩模或掩模原版的图案形成装置生成与IC的单个层相对应的电路图案并且使这个图案可以在具有辐射敏感材料(光刻胶)层的衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或几个管芯)上成像。一般地，单个衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网格。已知的光...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。