技术编号：2731275
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及能够很好地用作化学增强型抗蚀剂、尤其是浸液曝光用抗蚀剂的放射线敏感性树脂组合物，利用该组合物的抗蚀图案形成方法，作为该组合物的构成成分的、具有氟原子的聚合物，以及作为该聚合物的合成原料的、具有氟原子的聚合性化合物。背景技术在以集成电路元件的制造为代表的微细加工领域中，施行的是利用含有具有酸解离性基团的聚合物的树脂组合物在基板上形成抗蚀被膜，介由掩模图案对该抗蚀被膜照射短波长的放射线(准分子激光等)而使其曝光，利用碱性显影除去曝光部，从而形成微细的...
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