技术编号：2732062
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种可变衰减器、 一种光刻设备以及一种器件制造方法。技术背景光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上或衬底的一部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在平板显示器、集成电路(ic)以及其他涉及精细结构的器件的制造中。在现有的设备中，能够被称为掩模或掩模版的图 案形成装置能被用于生成与平板显示器(或其他器件)的独立层相对应的 电路图案。通过在设置在衬底上的辐射敏感材料(例如抗蚀剂)上成像， 该图案能被转移到衬底(例如玻璃板)的全部或一部分上。不同于电路图案...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。