技术编号：2732512
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻机成像质量的测量方法，尤其涉及一种利用双重精细结构的FOCAL (镜像焦面4企测对准标记)标记测量光刻机轴向像质参数 的方法。背景技术光刻机是集成电路生产和制造过程中的关键设备之一。而成像质量是影 响光刻机光刻分辨力和套刻精度的重要因素。最佳焦面偏移、像面倾斜以及 投影物镜的场曲与像散等参数是影响光刻机沿光轴方向的成像质量的主要因 素，因此被称为光刻机轴向像质参数。它们主要影响光刻特征尺寸、成像线 条均匀性、焦深等光刻性能指标。随着光刻特...
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