技术编号：2732532
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明专利涉及，具体涉及到光栅结构的刻蚀技术及真空镀膜技术。背景技术亚波长导模共振现象开始研究较早，但仍是近年来研究的热点物理问题。利用这种物理现象可制作亚波长导模共振滤光片，该类滤光片和传统的薄膜滤光片相比具有以下优点(1) 极窄的带宽，理论上可以达到O.Olnm; (2)极高的反射，理论上可以达到100%; (3)很少的层 数，单层或二到三层；(4)不严格的薄膜层厚度误差。亚波长导模共振窄带滤光片以其不可 比拟的优点，吸引着越来越多的科研工作者探索其应...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。