技术编号：2732562
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种同轴对准消色差光学系统，尤其涉及一种在半导体光刻 设备中用于同轴对准系统的消色差光学系统。背景技术在半导体光刻设备中，位置对准装置是非常重要的装置之一。从结构上 讲，可将位置对准装置分为同轴位置对准装置和离轴位置对准装置两大类。 同轴位置对准是指对曝光对象标记的照明和成像都通过曝光装置中的光学投 影系统。同轴位置对准装置位于掩模板上方，同轴对准光学系统是同轴位置对准 装置的重要部件之一 ，其设计质量的优劣将直接影响该同轴位置对准装置的 对准精...
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