技术编号：2733533
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于化学増幅型正性光刻胶领域，特别是涉及ー种化学増幅型正性光刻胶、制备方法及其在双光子精细加工中的应用。背景技术双光子加工技术，具有对材料穿透性强，空间分辨率高的优点，在三维超精细微加エ领域有着广泛的应用前景。而相应光刻胶的 制备是双光子加工技术发展的关键内容。目前，应用于双光子加工研究的材料主要是1)商用的负性光刻胶，如日本合成橡胶株式会社的自由基聚合型光刻胶SCR500，美国MicroChem公司的阳离子聚合型光刻胶SU-8。由于这些材料中的引发...
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