技术编号：2734146
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，并且尤其涉及一种测量投影光学系统的靶成象特性的成象特性测量法、调节成象特性的成象特性调节法、利用成象特性已根据本发明的成象特性调节法调节过的投影光学系统进行曝光的曝光法和适于执行成象特性调节法的曝光设备、使曝光设备的控制计算机执行计算和调节投影光学系统靶成象特性的处理的程序以及储存这一程序并可由电脑读出的信息存储介质，和一种利用曝光设备的器件制造方法。背景技术 常规地以光刻法制造诸如半导体、液晶显示器等器件时使用投影曝光设备，如基于重复扫描法(...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。