技术编号：2736675
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明总体涉及用于微光刻投影曝光设备的照射系统。更具体地，本 发明涉及包括一个或者多个散射结构的照射系统和产生多个二次光源的光 学积分器。背景技术微光刻(也称作光刻法或者简单光刻)是用于制造集成电路、液晶显 示器以及其他微结构装置的技术。微光刻工艺结合蚀刻工艺用于在薄膜叠 层中构图特征，所述薄膜叠层形成在例如硅晶片的衬底上。在制造的每一层，首先用光致抗蚀剂涂敷晶片，所述光致抗蚀剂是对例如深紫外(DUV) 光的辐照敏感的材料。下一步，将在顶部具有光致抗蚀剂的...
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