技术编号：2736798
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于光刻过程光罩板雾化，具体涉及。背景技术光罩版雾化是光刻过程不可避免的问题，光刻间环境中含有少量NH4-和清洗光罩板时残留的Cl—或SO4-离子反应生成结晶体，该结晶体的尺寸随着时间推移以及曝光时间的增加而慢慢扩散变大使光罩板雾化，当到达一定程度时，成像就会影响到晶圆曝光的质量。因此在成像之前及时清理和防止光罩版雾化就会显得很重要，通常情况下，每过一段时间要更换一次光罩版，使得光罩版的使用寿命很短，导致生产效率降低和成本增大。目前解决光罩版雾化的方...
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