技术编号：2737149
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一般而言，本发明涉及微电子器件的制造，尤其涉及采用通过激光烧蚀形成的抗蚀剂(resist)使用千法制造微电子器件。 背景技术平板印刷构图技术已用于微电子器件的常规制造中，包括用于平 板应用的薄膜晶体管(TFT)阵列。已证明应用于微型制造的常规光致 抗蚀剂平板印刷技术能于约100纳米的尺寸内在基板上限定结构及形 成材料区域。基于印刷模型，平板印刷方法形成接受或排斥(不接受)涂料(如 油墨)或某些其它处理的区域的图案。常规光刻需少数的基本步骤， 并根据所用材料...
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