负性辐射敏感组合物和可成像材料的制作方法技术资料下载

技术编号:2737407

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本发明涉及负性辐射敏感组合物和可成像元件如具有提高的耐 溶剂性和良好的敏感性的负性平版印刷印版前体。本发明也涉及使用 这些可成像元件的方法。背景技术辐射敏感组合物常用于可成像材料包括平版印刷印版前体的制 备中。这类组合物通常含辐射敏感组分、可自由基聚合的组分、引发剂体系和基料(binder),各个这些组分均已成为研究的焦点以提供物理 性质、成像性能和图像特性方面的各种改进。印版前体领域中近来的发展涉及可通过激光器或激光二极管成 像、更具体而言可成像和/或在...
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