技术编号：2737904
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种能够在碱性显影液中显影的正性光刻胶组成物，及该光刻胶的制备方法和使用这种光刻胶产生细微图形结构的方法。背景技术光刻胶(又称光致抗蚀剂)是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。它具有快速固化、节省时间和低的溶剂释放等特点，主要用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工，近年来已逐步应用于光电子领域中平板显示器的制作。由于光刻胶具有光化学敏感性，可利用其进行光化学反应，经曝光、显影等...
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