技术编号：2737956
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体集成电路制造领域，特别是涉及一种基于光刻工艺窗口的OPC修正方法。背景技术目前光学临近效应修正(OPC, Optical Proximity Correction)技术,作为一种分辨率增强技术(RET, Resolution Enhancement Technology),已普遍应用于 0.13 μ m 技术节点以上的关键层工艺。但是，随着半导体工艺尺寸的日益缩小，图形的设计规则(designrule)越来越小，同时也越来越复杂，如何配合光...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。