技术编号：2738853
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于微纳制造，涉及一种全禁带三维光子晶体的 压印成型制造方法及全禁带三维光子晶体结构。 背景技术光子晶体根据其介电常数在空间中的分布情况可分为一维、二 维和三维光子晶体。三维光子晶体的结构包括晶体的几何构形与介质 的填充比例。常见的晶体几何构形包括面心立方、体心立方、密堆六 方结构等。其中面心立方结构最有利于得到完全光子禁带。三维光子 晶体的制造目前主要采取两种基本方式。 一种是自上而下的加工方 式，包括机械法和半导体加工法等。机械法指利用微加工相关...
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