技术编号：2739046
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及包括下述组分的光刻胶组合物，所述组分包含两个或多个酰胺 (amide)基团。本发明优选的光刻胶可包括具有光致酸不稳定基团的树脂；光致酸产生剂化合物；和多酰胺组份，其可减少不希望产生的下述情況，即光产生的酸扩散到光刻胶涂层的非曝光区域的外面。背景技术光刻胶是将图像转移到基底上的光敏薄膜。它们形成负性或正性图像。在基底上涂敷光刻胶后，所述涂层通过图案化的光掩模暴露于活化能量如紫外光，以在光刻胶涂层中形成潜像。光掩模具有对活化辐射不透明和透明的区域，从...
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