技术编号：2739061
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及新的光致抗蚀剂组合物，其包含ー种或多种具有碱-反应性基团的材料，所述碱-反应性基团就是能够在抗蚀剂显影步骤期间在水性碱性光致抗蚀剂显影存在下经历分裂反应的官能团。本发明的光致抗蚀剂用于干燥曝光的应用。光致抗蚀剂是用来将图像传递到基材上的光敏性薄膜。在基材上形成光致抗蚀剂的涂层，然后光致抗蚀剂层通过光掩模暴露于活化辐射源。光掩模具有对活化辐射不透明的区域和对活化辐射透明的其他区域。曝光于活化辐射使光致抗蚀剂涂层发生光致化学转变，从而传递光掩模的图案...
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