技术编号：2739132
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻机制造领域，尤其涉及。技术背景光刻机是集成电路生产和制造过程中的关键设备之一 ，光刻机光刻分辨率 是决定光刻机性能的关键指标。众所周知，光学系统中的散射光即杂散光将影 响其成像的对比度，从而降低光学系统的分辨率。随着光刻特征尺寸的减小， 光刻机光学系统中的杂散光对光刻质量的影响越来越突出，杂散光周期性的原 位检测已成为先进的投影光刻机中不可或缺的功能。J. Kirk等人于1999年提出了一种光刻机投影物镜杂散光的检测技术，其 工作原理为按照一...
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