技术编号：2739167
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻机的测量方法，特别涉及一种光刻机成像质量的现场 测量方法。背景技术光刻机是集成电路生产和制造过程中的关键设备之一。成像质量是影响光 刻机光刻分辨力和套刻精度的重要因素。随着光刻特征尺寸的减小，光刻机投 影物镜波像差对光刻质量的影响越来越突出，波像差的原位检测已成为先进的 投影光刻机中不可或缺的功能，波像差的测量技术成为保证光刻性能的重要手 段。Peter Dirksen (彼得.德克森)等人于1999年提出了 一种光刻机投影物镜 波像差的...
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