技术编号：2739255
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及集成电路或其他微型器件制造领域的光刻设备，特别涉及对准 系统的对准标记。背景技术现有技术中的光刻设备，主要用于集成电路IC或其他微型器件的制造。通 过光刻设备，具有不同掩模图案的多层掩模在精确对准情况下依次曝光成像在 涂覆有光刻胶的硅片上。目前的光刻设备大体上分为两类， 一类是步进光刻设 备，掩模图案一次曝光成像在硅片的一个曝光区域，随后硅片相对于掩模移动， 将下一个曝光区域移动到掩模图案和投影物镜下方，再一次将掩模图案曝光在 硅片的另一曝光区域...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。