技术编号：2739376
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻照明技术，特别涉及一种产生连续可变光瞳的光刻照明装置。背景技术光刻法用于制造半导体器件。光刻法使用电磁辐射，如紫外(uv)、深uv 或可见光，在半导体器件设计中产生精细的图形。许多种半导体器件，如二极 管、三极管和集成电路，能够用光刻技术制作。光刻曝光系统通常包括照明系统、含有电路图的掩模版、投影系统和用于 涂覆了光刻胶的硅片和硅片对准台。照明系统照射掩模版电路图，投影系统把 掩模版电路图照明区域的像投射到晶片上。在光刻中，对图像质量起关键作...
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