技术编号：2739550
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于半导体技术中的微电子加工领域，尤其是涉及一种深紫外光刻 制作"T"型栅的方法。背景技术在高频、微波领域的器件制作中，栅长越短，工作频率也就越高，由于器 件的高频增益除了受栅长影响之外，受栅寄生参量栅电阻Rg和栅电容Cgs的影 响也很大。减小栅长，可以使栅电容Cgs降低，但要保证栅电阻Rg不能降低， 为解决Rg和Cgs的矛盾，采用"T"形栅技术是目前最有效工艺途径。目前有 许多不同的叫法，如"T"形栅、蘑菇形栅、"r"形栅等，是根据其形状而形 象化...
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