技术编号：2739940
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使用了激光干涉曝光的微细构造体，尤其涉及一种具有纳 米级构造的构造物(纳米构造体)的制造技术。能够应用该技术制造偏光 分离元件、相位延迟元件、反射防止元件等各种纳米构造体。背景技术向比可视光的波长(大致380 780nm程度)小的等级的构造物(亚 (sub)波长构造体)入射光时，会出现偏光分离、双折射、反射防止、 等离子传播等现象。作为用于制造这种亚波长构造体的手段之一，公知的 是利用了激光干涉的曝光技术(例如参照专利文献1)。在专利文献1所记 ...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。