技术编号：2741386
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及液晶显示技术，尤其涉及一种。 背景技术薄膜晶体管液晶显示器(TFT-IXD)中光刻胶涂布是一个非常重要的工艺步骤，现 有技术中光刻胶涂布方式主要有两种，一种是旋转涂布(spin)方式，另一种是裂缝涂布 (slit)方式。旋转涂布方式的过程为首先在基板上涂布厚度大于目标厚度的光刻胶，然后高 速旋转基板，使得基板之上的光刻胶分布均勻，并且使得光刻胶的厚度减小到目标厚度。这 种涂布方式存在的问题在于由于预先涂布的光刻胶的厚度大于目标厚度，所以会造成光 ...
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