技术编号：2741417
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体技术中的微细加工，更具体地，涉及一种在X射线光刻技术中使用的掩模。背景技术光刻技术是制造微电路、微结构、微机电系统、微型光学器件的重要手段。在光刻 技术中，光刻的分辨率受到光的衍射作用的影响，因此，所使用的光的波长越短，衍射的影 响越小，可以达到越高的分辨率。X射线的波长远远小于紫外光，因此，X射线光刻中光的衍射效应弱，分辨率高。另 夕卜，X射线还具有穿透性强、反射弱的特点，因此，X射线光刻可用于厚光刻胶的曝光，并且 不存在入射光与反射光相...
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