技术编号：2741435
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种照明系统，特别是关于一种含有亚波长偏振分束器的193nm浸 没式光刻照明系统。 背景技术光刻是大规模集成电路制造的核心技术，每一代新集成电路的出现，往往以光 刻工艺实现更小特征尺寸为主要技术标志。于是，人们通过不断减小光刻机的曝光 波长、增大投影物镜的数值孔径或者将二者结合的方法，以获得更小的特征尺寸。 目前，光刻机的曝光波长已经从436nm、 365nm、 248nm减小到了 193nm，同时液体 浸没技术也将投影物镜的数值孔径从0. 93...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。