技术编号：2742940
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及测量空间相干性的测量装置和包括该测量装置的曝光 装置。背景技术在制造诸如半导体器件的器件的平版印刷(lithography)处理 中，主要在光刻中，曝光装置中投影光学系统的NA在增大，并且曝 光光线的波长在缩短。随着NA增大，分辨能力提高，但焦深减小。 由于该原因，从形成比以前更微细的图案的观点来看，已证明了仅增 大投影光学系统的NA对于保持稳定的大规模生产是不够的。在这样 的环境下，通过最优化照明光学系统来改善分辨率特性的所谓的修改 的照明方法...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。