技术编号:2742957
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及把两个物体结合起来的结合装置、在用液体充满投影 光学系统和基板之间的状态下通过投影光学系统对基板进行曝光的曝 光装置、以及使用该膝光装置的器件制造方法。本申请对于2003年7月9日提出的特愿2003-272615号和2003 年7月28日提出的特愿2003-281182号主张优先权,并在此援引其内 容。背景技术通过把形成在掩模上的图案复制到感光性的基板上的所谓光刻 方法来制造半导体器件或液晶显示器件。在该光刻步骤中使用的膝光 装置具有支撑掩模的掩...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。